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水性墨水納米高剪切分散機

水性墨水納米高剪切分散機 轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

  • 產(chǎn)品型號:XRS2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-06-06
  • 訪  問  量:873
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詳細介紹

水性墨水納米高剪切分散機

分散機是分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的"精細分布。

墨水是墨水和油漆涵蓋了涂裝和噴涂應用的很多類產(chǎn)品。墨水和油漆通常分為油相和水相兩種,并有添加色素或樹脂。如采用傳統(tǒng)加工方式,需要花費相當長的時間來溶解樹脂,還會發(fā)生沉淀和結(jié)塊。使用設(shè)備,客戶可以高效率生產(chǎn)高品質(zhì)的產(chǎn)品。

縮短工藝時間。設(shè)備產(chǎn)生的高剪力,可以打碎樹脂顆粒,并暴露于溶劑中,加速溶解過程。

提升產(chǎn)品品質(zhì)。根據(jù)原料和產(chǎn)品的細度,設(shè)備可以研磨色素,或消除 終產(chǎn)品的結(jié)塊。有多種分散頭供選擇,能勝任各項任務。

墨水納米分散機是 顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性,表現(xiàn)出強烈的表面效應,很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生

*納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發(fā)揮其應有的奇異性能。

墨水納米分散機

分散機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是 重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出XRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。

三級高剪切分散機器,主要用于微乳液及超細懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同工藝應用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴大規(guī)模化生產(chǎn)。也符合CIP/SIP清潔標準,適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細為懸浮乳液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,其剪切速率可以超過15000rpm,轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XRS2000/4

300-1000

18000

44

4

DN25

DN15

XRS2000/5

1000-1500

10500

44

11

DN40

DN32

XRS2000/10

3000

7300

44

22

DN50

DN50

XRS2000/20

8000

4900

44

37

DN80

DN65

XRS2000/30

20000

2850

44

55

DN150

DN125

XRS2000/50

40000

2000

44

160

DN200

DN150

水性墨水納米高剪切分散機



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